1.加快烘焙速度
Unity中的Lightmap烘焙速度一直是经常被人吐槽的一个问题，一个极其简单的小场景使用默认参数时烘焙都要几分钟，而大场景往往要烘几个小时甚至十几小时。不过Unity的烘焙系统有提供许多可调参数，通过合理调整这些参数能够显著加快烘焙速度。

讲师提到的第一个影响因素是Indirect Resolution，这个参数影响的是光照图中间接光的质量，它不影响阴影质量。Unity中的GI包括Realtime GI和Baked GI两种，而Baked GI是基于Realtime GI的计算结果进行进一步的计算。在第一步的计算中，需要对所有模型的表面进行分块/聚类（Cluster）操作，把模型体素化，表面分成一个个格子，再基于这个格子进行间接光照的计算。Indirect Resolution越大，Cluster数量越多，格子越密集，计算就越慢。而这个参数对于效果的影响不大，一般情况下无需调到太高值。

对于Indirect Resolution的设置建议：
室内：2-3 texels per unit
室外：0.5-1 texel per unit
大型地形：0.1-0.5 texel per unit
（然而它的默认值是5...）
第二个影响因素就是大家耳熟能详的Lightmap Resolution，它影响的是阴影质量及最终烘焙得到的贴图大小。对于它的优化也很简单，减就完事儿了，越减越快。而这里的设置建议是，将该参数大小设置为Indirect Resolution的十倍，在shadow使用distance shadowmask模式时，这个值甚至可以更低（因为近处的阴影都使用了实时阴影）。而且这个值越小，最后烘焙的光照图也越小，能够起到节省内存的效果。
（然而在Unity里，它的默认值甚至达到了40）
以下为我毕设中的一个场景全貌，这个场景在上面的参数下烘焙得到的贴图正好是一整张2048的贴图，甚至还有剩余，效果还算可以接受。

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另外，对于某些面积较大，或离得较远，不需要很高精度阴影的模型，也可以对它的光照图分辨率进行单独修改，修改位置在Mesh Renderer组件中。

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最终该模型的光照图分辨率为Final = Scale * Lightmap Resolution；

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第三个影响因素则是烘焙模型的数量。没错，既然烘焙那么慢，那少烘点不就快了吗？当然，不用害怕被美术打死，我们还有神器：Light Probe（光照探头）。这个东西的作用是参与烘焙，然后可以在自己参与烘焙的范围内，为动态物体提供间接光和阴影，总之就是一个能让动态物体实现接近于被烘焙的效果。在实际操作中，我们可以让重要的物体参与烘焙，而一些不重要的小物体就交给光照探头来解决，这样就能节省很大一部分内存。
但是在极端情况下，若想让全场景都通过光照探头进行烘焙，Unity目前还无法实现这个功能。不过讲师提到了一种比较trick的方法，就是先用极低的参数对场景进行烘焙，然后通过两个Unity中的接口获取各个位置光照探头的颜色参数，并将其导出，然后在物体的shader中使用这个参数，从而实现节省内存的效果。
Trick方法的原文第四个影响因素是反射贴图的分辨率。反射使用的Cubemap太大会影响内存和烘焙效率，一般64或128即可。
下一个因素是计算光照时展开的uv大小。在烘焙时，unity要将场景分成许多小块进行计算，而最终也需要将这些小块映射到一张平铺的uv之上，而切分时小块的数量过多也会造成光照贴图增大。这一点可以通过Mesh Renderer组件上的Optimize Realtime UV选项进行优化。对于不规则的物体，最好使用光照探针。

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最后一个因素，还记得一开始时说的Cluster吗，它的分块数量影响着烘焙的速度。（这里的分块与第四点中的不同，第四点的切块本质为UV展开，而这里只是一种简化计算的手段，计算获得的是中间结果）。我们甚至可以直接调整它的分辨率。在工程文件夹里新建一个Lightmap Parameters，里面会有一些新的参数。
调整红框内的参数，就能直接控制Cluster的分辨率了。一般来说，这个值可以取0.3-0.6之间。

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: 2018Unity烘焙技巧

谢谢分享

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大佬啊

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